M.Sc. Daniel Kool

Nanostrukturierung - Nanoanalytik - Photonische Materialien

Mitglied - Doktorand

Nanostrukturierung von Oberflächen durch Blockcopolymer-Lithographie (BCP)

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Aktuelle Publikationen

High‐Resolution Study of Changes in Morphology and Chemistry of Cylindrical PS‐ <i>b</i> ‐PMMA Block Copolymer Nanomasks during Mask Development
J. Bürger, H. Venugopal, D. Kool, T. de los Arcos, A. Gonzalez Orive, G. Grundmeier, K. Brassat, J.K.N. Lindner, Advanced Materials Interfaces 9 (2022).
DOI
Selective Area Growth of Cubic Gallium Nitride in Nanoscopic Silicon Dioxide Masks
F. Meier, M. Littmann, J. Bürger, T. Riedl, D. Kool, J. Lindner, D. Reuter, D.J. As, Physica Status Solidi (b) (2022).
DOI
High‐Resolution Study of Changes in Morphology and Chemistry of Cylindrical PS‐ <i>b</i> ‐PMMA Block Copolymer Nanomasks during Mask Development
J. Bürger, H. Venugopal, D. Kool, M.T. de los Arcos de Pedro, A. Gonzalez Orive, G. Grundmeier, K. Brassat, J. Lindner, Advanced Materials Interfaces 9 (2022).
DOI
Characterisation of the PS-PMMA Interfaces in Microphase Separated Block Copolymer Thin Films by Analytical (S)TEM
J. Bürger, V. Kunnathully, D. Kool, J. Lindner, K. Brassat, Nanomaterials 10 (2020).
DOI
Modification of block copolymer lithography masks by O2 plasma treatment: Insights from lift off experiments, nanopore etching and free membranes
K. Brassat, D. Kool, J. Lindner, To Be Submitted (n.d.).
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Tätigkeit

Nanostrukturierung von Oberflächen durch Blockcopolymer-Lithographie (BCP) und anschließender Untersuchung und Charakterisierung der Strukturen durch verschiedene Analysemethoden (AFM, SEM, TEM, ...)